熱釋光劑量系統(tǒng)已經(jīng)成為應(yīng)用廣泛的個(gè)人劑量檢測(cè)系統(tǒng)。熱釋光技術(shù)的原理在于其敏感元件經(jīng)照射后，所形成的電子或空穴處于亞穩(wěn)態(tài)，經(jīng)加熱后其能量能以光子形式釋放，其發(fā)光量與照射量之間存在著良好的線性關(guān)系。從原理可知，熱釋光個(gè)人劑量監(jiān)測(cè)是一種相對(duì)測(cè)量方法，熱釋光劑量測(cè)量系統(tǒng)在使用前需要對(duì)受標(biāo)準(zhǔn)輻射場(chǎng)照射的劑量探測(cè)器進(jìn)行測(cè)讀，從而為讀出系統(tǒng)賦值。
熱釋光劑量系統(tǒng)是一個(gè)包括退火、受照、檢測(cè)等多步驟的復(fù)雜過(guò)程，其性和穩(wěn)定性受探測(cè)器的分散性、能量響應(yīng)、讀出儀的穩(wěn)定性以及退火、檢測(cè)操作等多因素影響，其中探測(cè)器的分散性是影響檢測(cè)結(jié)果的關(guān)鍵因素，也是比較難于達(dá)到要求的因素，本實(shí)驗(yàn)抓住劑量探測(cè)器分散性這一主要矛盾，將同批使用的劑量元件的相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差控制在5%以內(nèi)，為熱釋光劑量測(cè)量系統(tǒng)檢測(cè)結(jié)果的穩(wěn)定可信提供了可靠的物質(zhì)基礎(chǔ)。
熱釋光劑量系統(tǒng)在資質(zhì)計(jì)量站的校準(zhǔn)周期一般為一年，而在期間多次使用中，退火過(guò)程造成的劑量元件能響的變化、分散性的變大、讀出儀靈敏度的波動(dòng)和各種原因造成的讀出系統(tǒng)的偏移等，都有可能使測(cè)量結(jié)果的性和穩(wěn)定性受到影響，而采用自備的輻照儀對(duì)熱釋光劑量系統(tǒng)進(jìn)行質(zhì)量控制就顯得非常必要。
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